Energiforsyningssystemer i halvlederproduktion
Der er behov for ren luft i produktionen af Fixload. Dette skyldes det meget følsomme anvendelsesområde for belastningsgrænsefladen til 300 mm wafer-behandlingsanordninger i halvlederproduktion. Da de wafer, der skal behandles, er ubeskyttede og udsat for omgivelserne under ilægning, må det tekniske udstyr ikke generere partikler.
Derfor anvendes her en slidbestandig energiforsyning, der kan bruges i renrum i ISO-klasse 3 (i henhold til DIN EN ISO 146441-1).